KOR | CHN

Specialty Gas

C4F6 / WF6
CH2F2
high-purity HF
C3H2F6
C3H2F6
c4f6

六氟丙烷
[C3H2F6]

· 应用 用于半导体刻蚀工艺(Semiconductor Etching Process)的干法刻蚀气体(Dry etching gas)
· 规格 钢瓶材质:Cr-mo,容量:47L / 阀门:DISS716 /
充装重量:45KG

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· Product Specifications

Classification Unit Standard
Purity % > 99.99
氧气(O2) ppm < 5
氮气(N2) ppm < 20
氧氟化碳(OFC) ppm < 90
水分(H2O) ppm < 15
氟化氢(HF) ppm < 0.3
铁(Fe) ppb < 5
镍(Ni) ppb < 5