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- 특수가스
  - - MAIN
  - · C4F6
  - · WF6
  - · CH2F2
  - · CHF3
  - · 고순도 HF
  - · C3H2F6
- 2차전지소재
  - - MAIN
  - · LiPF6
  - · LiPO2F2
  - · LiBF4
- 무기물화물
  - - MAIN
  - · AHF
  - · HF 55%/70%
  - · H2SiF6
  - · NH4HF2
  - · HCI
  - · CaSO4
- 냉매
  - - MAIN
  - · K-22
  - · K-410A
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  - · R-134a
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  - · R-123
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환경,안전

회사소개	제품소개	환경안전경영	윤리경영	투자정보	고객지원	ESG 정보공개
개요 기업문화 비전 경영이념/사훈 품질경영 연혁 사업장 공장 분당 해외사업장 후성과기(남통)유한공사 후성신재료(남통)유한공사 쑤저우후성화공유한공사 R&D 소개 연구개발 현황 연구분야 산업재산권 특허 국내 국외 (주)후성 역사관 Hydrogen Fluoride(불화수소)	특수가스 C4F6 CH2F2 WF6 고순도 HF C3H2F6 2차전지소재 LiPF6 LiBF4 무기물화물 AHF HF 55%/70% H2SiF6 NH4HF2 HCI CaSO4 냉매 K-22 K-410A K-404A R-134a K-407C K-507 K-32 K-4060 R-141b MDI R-123 K-23 R-125 R-227ea	환경, 안전 안전보건경영방침 환경안전문화 Safety Golden Rules 내진설비	윤리경영선언문 윤리강령 행동준칙 인권경영정책	재무정보 공시정보	공지사항 고객문의	환경경영 (E) 사회적 가치 (S) 지배구조 (G) 사이버신문고

R&D

소개

연구개발 현황

(주)후성 부설 연구소는1986년 설립 이래 지속적인 연구개발을 통해 2차전지 전해질 및 첨가제, 반도체 특수 가스, HCFC/HFC 대체물질 개발, 불소계 고분자 등의 불소계 기초물질 개발을 선도하고 있습니다. 그동안 다져온 고객 신뢰와 기술혁신을 바탕으로 미래 유망 분야의 기술 개발을 통해 신성장 동력 발굴 및 지속 성장 기반 구축에 주력해 나갈 것입니다.