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R&D

소개
연구개발 현황

(주)후성 부설 연구소는1986년 설립 이래 지속적인 연구개발을 통해 2차전지 전해질 및 첨가제, 반도체 특수 가스, HCFC/HFC 대체물질 개발, 불소계 고분자 등의 불소계 기초물질 개발을 선도하고 있습니다. 그동안 다져온 고객 신뢰와 기술혁신을 바탕으로 미래 유망 분야의 기술 개발을 통해 신성장 동력 발굴 및 지속 성장 기반 구축에 주력해 나갈 것입니다.