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특수가스

C4F6 / WF6
CH2F2
고순도 HF
C3H2F6
CH2F2
c4f6

디플루오로 메탄
CH2F2 [Difluoromethane]

· 용도(APPLICATION) 반도체 식각 공정에서 사용되는 Dry etching gas
· 용기(PACKING) 실린더 : Mn-Steel, 47L / 밸브 : JIS22L, DISS724 /
충전 무게 : 30KG, 35KG

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· 제품 SPEC

구분 단위 규격
순도 % 99.99 이상
H2O ppm 10 이하
HF ppm 1 이하
N2 ppm 20 이하
O2 ppm 5 이하
CO2 ppm 1 이하
OHFC ppm 10 이하