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특수가스

C4F6 / WF6
CH2F2
고순도 HF
C3H2F6
C4F6
c4f6

육불화부타디엔
C4F6 [Hexafluorobutadiene]

· 용도(APPLICATION) 반도체 식각 공정에서 사용되는 Dry etching gas
· 용기(PACKING) 실린더 : Cr-mo, 47L / 밸브 : DISS724, CGA350 /
충전 무게 : 25KG, 45KG

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· 제품 SPEC

구분 단위 규격
순도 % 99.9 이상
OFC ppm 700 이하
N2 ppm 40 이하
O2+Ar ppm 10 이하
HF ppm 10 이하
H2O ppm 20 이하
CO ppm 10 이하
CO2 ppm 20 이하
WF6
c4f6

육불화텅스텐
WF6 [Tungsten Hexafluoride]

· 용도(APPLICATION) 반도체 증착 공정에서 사용되는 Deposition gas
· 용기(PACKING) 실린더 : SUS316L, 40L / 밸브 : DISS638, JIS22R /
충전 무게 : 50KG, 70KG

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· 제품 SPEC

구분 단위 규격
순도 % 99.9995 이상
O2+Ar ppm 0.5 이하
N2 ppm 0.5 이하
CO ppm 0.5 이하
CO2 ppm 0.5 이하
SiF4 ppm 0.5 이하
SF6 ppm 0.5 이하
CF4 ppm 0.5 이하
HF ppm 1 이하
Cr ppb 50 이하
Na ppb 50 이하
Cu ppb 50 이하
Fe ppb 20 이하
Ca ppb 50 이하
Zn ppb 50 이하
Ni ppb 100 이하