ENG | CHN

R&D

소개
연구개발 현황
연구분야
산업재산권 특허

후성의 불소화학 기술이
일상의 가치를 높입니다.

  • 2차전지 전해질 및
    첨가제 연구

  • 신규 반도체 가스
    연구

  • HCFC/HFC 대체
    친환경 물질 연구

  • 불소계 고분자
    연구

  • 3D 반도체 소재
    연구

  • 불소계 유기물
    연구

  • 2차전지 전해질 및 첨가제 연구

최근 국제 사회는 탈원전, 지구 온난화와 같이 친환경 기술 발전에 대한 관심이 고조되고 있으며, 이에 따라 친환경 에너지에 대한 개발이 활발히 진행되고 있습니다. 친환경 기술 발전이 가속화 되면서 휴대형 전자기기뿐만 아니라 전기자동차 및 신재생 에너지 저장장치 같은 고용량, 고출력 장치로 사용하기 위한 리튬 이온 2차전지 전해질 및 첨가제 연구가 활발히 진행되고 있습니다.

닫기
  • 신규 반도체 가스 연구

메모리 반도체 공정이 미세화, 고집적화 되면서 반도체 특수가스 연구에 대한 Needs가 높아지고 있습니다.
반도체 특수 가스인 C4F6, WF6, CH2F2, CHF3 개발 기술력을 바탕으로 차세대 에칭, 증착, 세정 등에 사용되는 다양한
반도체 특수가스 연구개발을 진행하고 있습니다.

닫기
  • HCFC/HFC 대체 친환경 물질 연구

불소계 물질은 냉매, 발포제, 세정제 등과 같이 우리 생활에 널리 사용되고 있습니다. 2015년 “파리기후변화협약”에 따라 온실가스 감축을 위해 지구 온난화 지수가 낮은 HFO-1234yf, HFO-1234ze 와 같은 HFO 계열 물질의 연구개발을 진행하고 있습니다.

닫기
  • 불소계 고분자 연구

불소계 고분자는 다른 고분자에 비해 내열성, 내약품성, 내후성, 전기절연성 등 물성이 우수하여 다양한 분야에서 핵심적인 기초 소재로 사용되고 있습니다. 후성 연구소는 불소계 모노머 제조 기술을 기반으로 디스플레이, 센서, 섬유산업 등에 적용 가능한 스페셜티 불소계 고분자 연구개발을 진행하고 있습니다.

닫기
  • 3D 반도체 소재 연구

반도체 성능을 높이기 위해서 DRAM의 미세화, 저전력화 확대 및 3D NAND의 고층화로 인해 기존의 반도체 공정 기술에서 사용된 것이 아닌 3D 반도체 기술에 맞는 적절한 소재가 필요합니다. 3D 반도체 재료는 3D 구조에 높은 균일성을 가지도록 증착할 수 있는 소재 (High-k, Low-k) 와 3D 반도체 구조에 최적화된 Wet Etchant를 개발하기 위해 노력하고 있습니다.

닫기
  • 불소계 유기물 연구

불소 화학의 기초가 되는 다양한 불소 원료 (HF, F2, HFA, HFP) 제조 기술을 바탕으로 전자 재료인 투명 폴리이미드의 단량체 합성 및 다양한 불소계 유기화합물 연구개발을 진행하고 있습니다.

닫기