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특수가스

C4F6 / WF6
CH2F2
고순도 HF
C3H2F6
C3H2F6
c4f6

헥사플루오르프로판
C3H2F6 [hexafluoropropane]

· 용도(APPLICATION) 반도체 식각 공정에서 사용되는 Dry etching gas
· 용기(PACKING) 실린더 : Cr-mo, 47L / 밸브 : DISS716 /
충전 무게 : 45KG

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· 제품 SPEC

구분 단위 규격
순도 % 99.99 이상
O2 ppm 5 이하
N2 ppm 20 이하
OFC ppm 90 이하
H2O ppm 15 이하
HF ppm 0.3 이하
Fe ppb 5 이하
Ni ppb 5 이하